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附著力等級(jí)小于1級(jí)(漆膜附著力等級(jí)選定原則)
來(lái)源: | 作者:金徠等離子處理設(shè)備 | 發(fā)布時(shí)間: 2023-08-17 | 509 次瀏覽 | 分享到:
現(xiàn)階段較常用的等離子體處理設(shè)備有3種激起頻率:激起頻率40kHz的等離子體為超聲等離子體、13.56兆赫茲等離子體處理設(shè)備和2.45GHz等離子體處理設(shè)備。 各種等離子處理裝置帶來(lái)相同的自偏壓。超聲波的自偏壓約有是一千伏,漆膜附著力等級(jí)選定原則頻射等離子體處理設(shè)備的自偏壓約有是二百五十伏,微波射頻的

現(xiàn)階段較常用的等離子體處理設(shè)備有3種激起頻率:激起頻率40kHz的等離子體為超聲等離子體、13.56兆赫茲等離子體處理設(shè)備和2.45GHz等離子體處理設(shè)備。 各種等離子處理裝置帶來(lái)相同的自偏壓。超聲波的自偏壓約有是一千伏,漆膜附著力等級(jí)選定原則頻射等離子體處理設(shè)備的自偏壓約有是二百五十伏,微波射頻的自偏壓很低,僅有十幾伏,3種等離子體的原則也不同。

附著力等級(jí)小于1級(jí)

此網(wǎng)格銅不描述 SI 功能。 , 從彎曲性的角度來(lái)看,附著力等級(jí)小于1級(jí)有了很大的提高。有研討會(huì)或展廳的朋友親身試用過(guò),其實(shí)還是蠻軟的。但柔軟是我們的柔軟根據(jù)SI的一些理論,它肯定對(duì)我們高速信號(hào)的性能有一定的影響。這使跡線(xiàn)的參考平面保持不變,并且阻抗繼續(xù)變化。這似乎不符合確保參考平面對(duì)于高速信號(hào)完好無(wú)損的基本原則。但是測(cè)試結(jié)果還沒(méi)有沒(méi)有朋友那么糟糕,所以我們也不會(huì)太悲觀(guān)。

此網(wǎng)格銅不描述 SI 功能。 , 從彎曲性的角度來(lái)看,附著力等級(jí)小于1級(jí)有了很大的提高。有研討會(huì)或展廳的朋友親身試用過(guò),其實(shí)還是蠻軟的。但柔軟是我們的柔軟根據(jù)SI的一些理論,它肯定對(duì)我們高速信號(hào)的性能有一定的影響。這使跡線(xiàn)的參考平面保持不變,并且阻抗繼續(xù)變化。這似乎不符合確保參考平面對(duì)于高速信號(hào)完好無(wú)損的基本原則。但是測(cè)試結(jié)果還沒(méi)有沒(méi)有朋友那么糟糕,所以我們也不會(huì)太悲觀(guān)。

低溫等離子清洗機(jī)具有以下優(yōu)點(diǎn):在環(huán)保技術(shù)方面,漆膜附著力等級(jí)選定原則低溫等離子清洗機(jī)表面處理工藝為氣固共格反應(yīng),不消耗水資源,不添加化學(xué)品;2 .低溫等離子清洗機(jī)全過(guò)程可在短時(shí)間內(nèi)完成,(效)率高;3 .低溫等離子清洗機(jī)設(shè)備簡(jiǎn)單,使用維護(hù)方便,用少量的蒸汽即可替代昂貴的清洗液,同時(shí)無(wú)需廢液處置,成本極低;5.低溫等離子清洗機(jī)可深入內(nèi)部的微孔和凹陷處,完成清洗任務(wù),清洗效率可達(dá)99%,顯微處置(效果)更佳,水果更細(xì);低溫等離子清洗機(jī)表面處理設(shè)備可以實(shí)現(xiàn)對(duì)大部分固體物質(zhì)的處置,其工業(yè)應(yīng)用相當(dāng)廣泛。

漆膜附著力等級(jí)選定原則

漆膜附著力等級(jí)選定原則

等離子清洗工藝具有操作簡(jiǎn)便、可控性高等明顯優(yōu)勢(shì),因此被廣泛應(yīng)用于電子電氣、材料表面改性與活化等諸多行業(yè)。同時(shí),這項(xiàng)卓越的技術(shù)有望在復(fù)合材料領(lǐng)域得到認(rèn)可和廣泛應(yīng)用。圖 1 簡(jiǎn)要說(shuō)明了等離子清洗的有效原理。主要通過(guò)等離子體效應(yīng)材料表面發(fā)生一系列物理化學(xué)變化,其中活性粒子和高能射線(xiàn)與表面的有機(jī)污染物分子發(fā)生反應(yīng)碰撞,形成小分子蒸發(fā)物。一個(gè)表面即可完成清潔效果。

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然而,這些非反應(yīng)性氣體等離子體技術(shù)的高效能量粒子會(huì)沖擊材料表層,提供能量并產(chǎn)生大量自由基。自由基作用于材料表面形成雙鍵和交聯(lián)結(jié)構(gòu),惰性氣體等離子技術(shù)在材料表面形成薄交聯(lián)層。等離子清洗機(jī)的表面處理采用稀有氣體時(shí),如果處理后的高分子材料本身含有O2,在高分子分解分解后,高分子碎片進(jìn)入等離子技術(shù),由等離子系統(tǒng)供給O2。同時(shí),它生產(chǎn)等離子技術(shù)。

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